99半導体製造のための高純度PSA酸素発電機

PSA酸素発電機(圧力振動吸着酸素発電機半導体製造産業における重要なクリーン機器である.高精度圧力振動吸着 (PSA) 技術をベースに,二重層分子シート (普通分子シート+高純度分子シート) を用いて深層浄化を行い,99%以上の濃度で高純度酸素を生産する.0.5%

安定した純度,高い清潔度,信頼性の高い操作,汚染物質の排出量ゼロなどの主要な利点があります半導体製造中に酸化や薄膜堆積などのプロセスにおける酸素純度と清潔性の厳しい要求を満たすことができる. の上位レベルの構成としてPSA酸素プラントの純度この装置によって生成される酸素中の汚れ物 (窒素,水分,二酸化炭素など) は全てppm以下に制御されている.酸素の純度が不十分であるため,チップの生産量の減少を回避する半導体製造のための不可欠な酸素供給機器です

半導体製造は精密製造のピナックであり,チッププロセスはナノメートルスケール (5nm,3nm) に到達している.微小な不純物がチップのショートサーキットを引き起こす可能性があります.性能低下酸素は主に半導体製造における酸化 (SiO2隔熱層を形成) や化学蒸気堆積 (CVD) などのコアプロセスで使用される.酸素の純度が直接的に保温層厚さの均一性に影響しますフィルム粘着性とチップの電気性能

通常の工業用酸素 (93%純度) には,チップ表面に欠陥を形成する窒素や水分などの不純物が含まれており,生産量は10〜20%減少する.5%高純度酸素は,不純物含有量をppmレベル以下に制御できる効果的に欠陥形成を回避し,チップの出力は90%以上安定していることを保証します.PSA酸素発電機窒素,水分,二酸化炭素などの不浄物質を空気から深く除去できます.PSA酸素プラントの純度制御精度は従来の酸素生成装置をはるかに上回り,半導体製造のプロセス要件を完全に満たしています.

また,半導体製造には酸素清潔性に関する非常に高い要求事項があります.出力ガスは,クリーンルーム分類100級 (100粒以上 ≥0.5μm/m3の空気).PSA酸素発電機高効率のガスフィルタリングシステムで装備され,酸素中の微小粒子をフィルタリングすることで,チップ表面の粒子汚染を回避し,チップの質をさらに確保できます.

購入する際PSA酸素発電機半導体企業は"合格の純度,クリーンルームの互換性,安定性,信頼性,サプライヤーの完全資格"という4つの基本原則を遵守しなければならない.

• 純度に関しては,酸素純度 ≥99.5%と不純度含有量が半導体プロセス要件を満たす機器を選択することが不可欠です.そして,サプライヤーから第三者の試験報告 (SGSなど) を提供することを要求します.(ITS)
• クリーンルーム互換性に関して,設備の出力ガス清潔度は ≥Class 100であり,設備のキャッシュがクリーンルームの設置要件を満たしていることを確認する必要があります.
• 安定性と信頼性の観点から,連続運転時間 ≥8,000時間/年,コアコンポーネントの保証時間 ≥3年
• 供給者の資格は極めて重要です.PSAベースの酸素プラント生産資格,ISO9001品質管理システム認証,半導体産業関連認証 (SEMI認証など)半導体産業における成功事例を提示するよう求めます

半導体産業の高い要求に応える必要があります. 供給者は24時間/24時間の技術サポート,定期的な現場整備,設備の長期的安定な運用を保証するために,迅速なスペアパーツ供給.

99.5%の高純度で,PSA酸素発電機半導体製造における 清潔な酸素供給の基準となりました 精密な純度制御,清潔なガス出力安定した動作性能は,半導体プロセスに信頼性の高い酸素供給をサポートすることができます.生産性を向上させコストを削減するための重要な機器です.